多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。

目前項目團隊自主研發的CVD設備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導體表面）直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發。工藝簡單廉價，且具有傳統半導體生長工藝的兼容性。